具有小虚化学势的次次领头阶 epsilon 展开
高能物理 - 格点
2014-11-20 v1 高能物理 - 理论
摘要
我们讨论了包含小虚化学势时，两味和三味夸克在次次领头阶（NNLO） epsilon 展开下的手征微扰理论。我们计算了低能常数 和 的有限体积修正，并确定了该理论的非普适修正，即无法映射到随机矩阵理论（RMT）的修正。在非对称盒子中两味夸克的特殊情况下，我们讨论了如何通过晶格几何的最优选择来最小化有限体积修正和非普适修正。此外，我们提供了有限体积下无质量日落图的一个特殊版本的详细计算。
引用
@article{arxiv.1004.5584,
title = {The epsilon expansion at next-to-next-to-leading order with small imaginary chemical potential},
author = {Christoph Lehner and Shoji Hashimoto and Tilo Wettig},
journal= {arXiv preprint arXiv:1004.5584},
year = {2014}
}
备注
21 pages, 5 figures