红荧烯薄膜中衬底诱导的分子构象：厚度依赖性研究
介观与纳米尺度物理
2016-11-28 v1
摘要
我们通过将薄膜厚度从亚单层变化到多层，对红荧烯薄膜中衬底诱导的分子构象进行了系统的实验和理论研究，该研究因其在有机电子学中的应用而目前备受关注。清洁的多晶 Au 和 Ag 被用作贵金属衬底，而 H 钝化和 SiO₂ 终端的 Si(100) 被用作介电衬底。采用角度依赖的近边 X 射线吸收精细结构谱（NEXAFS）来理解分子构象，同时使用原子力显微镜（AFM）来研究薄膜的表面形貌。利用密度泛函理论（DFT）计算了具有平面和扭曲构象的红荧烯分子的 X 射线吸收谱（XAS）。在不同厚度和不同衬底上观察到的所有红荧烯薄膜 NEXAFS 谱，均可通过扭曲分子和平面分子的谱强度以不同组合来解释。与一般发现相反，我们发现相对粗糙的多晶 Ag 表面支持生长质量更好的红荧烯薄膜。这些结果对于理解红荧烯薄膜中随厚度变化的衬底诱导分子构象具有重要意义，并有助于改善器件性能。
引用
@article{arxiv.1611.08129,
title = {Substrate Induced Molecular Conformations in Rubrene Thin Films: A Thickness Dependent Study},
author = {Sumona Sinha and Chia-Hsin Wang and Manbendra Mukherjee and Tapas Mukherjee},
journal= {arXiv preprint arXiv:1611.08129},
year = {2016}
}