空穴掺杂超导体 Pr1-xSrxFeAsO 的结构研究

J Ju; Z Li; G Mu; H-H Wen; K Sato; M Watahiki; G Li; K Tanigaki

doi:10.1088/1367-2630/11/8/083003

空穴掺杂超导体 Pr1-xSrxFeAsO 的结构研究

超导电性 2015-05-13 v1 材料科学

作者: J Ju , Z Li , G Mu , H-H Wen , K Sato , M Watahiki , G Li , K Tanigaki

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摘要

利用同步辐射 X 射线衍射获得的数据，分析了 Pr1-xSrxFeAsO (1111) 超导体系的结构细节，并仔细研究了随着 Sr 浓度增加，该体系从非超导态向空穴掺杂超导态转变时的结构参数。当 Sr 掺杂量达到 0.221 时出现超导电性。晶格常数的线性增加证明 Sr 被成功引入体系中，且其浓度可以通过电子密度分析精确确定。Pr1-xSrxFeAsO 中结构参数随 Sr 浓度的演化及其与相关铁基超导体类似结构参数的比较表明，导电 As-Fe-As 层与绝缘 Pr-O-Pr 层之间的层间空间对于提高空穴掺杂 (1111) 超导体的 Tc 至关重要，这似乎与电子掺杂体系不同。

关键词

空穴掺杂超导体 Pr1-xSrxFeAsO 同步辐射 X 射线衍射结构参数铁基超导体

引用

@article{arxiv.0904.4613,
  title  = {Structural study on hole-doped superconductors Pr1-xSrxFeAsO},
  author = {J Ju and Z Li and G Mu and H-H Wen and K Sato and M Watahiki and G Li and K Tanigaki},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0904.4613},
  year   = {2015}
}

备注

17 pages, 7 figures, 1 table

空穴掺杂超导体 Pr1-xSrxFeAsO 的结构研究

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