热处理诱导氢化非晶Si/Ge多层膜的结构改性
材料科学
2009-02-12 v1
摘要
本文研究了溅射制备的氢化非晶Si/Ge多层膜在退火条件下发生的结构变化。除本文所采用的最温和条件（150°C，时间<22小时）外，退火会改变沉积态多层膜的结构。在更高温度和/或更长时间下，结构变化表现为层间混合以及表面出现凸起和凹坑形式的退化。我们认为这些变化是由加热过程中氢气泡的形成所致。氢应主要从非晶Ge层中释放出来。
引用
@article{arxiv.0902.1814,
title = {Structural modifications induced in hydrogenated amorphous Si/Ge multilayers by heat treatments},
author = {C. Frigeri and M. Serenyi and A. Csik and Z. Erdelyi and D. L. Beke and L. Nasi},
journal= {arXiv preprint arXiv:0902.1814},
year = {2009}
}