拓扑 Y 形结设备中的强相关传输
介观与纳米尺度物理
2025-09-09 v3 强关联电子
摘要
我分析通过由二维拓扑绝缘体(2DTI)的螺旋边缘态形成的 Y 形结进行的电子传输,聚焦于强相互作用 regime。提出一种以实验为导向的器件几何和自旋守恒隧穿哈密顿量。我计算导电张量并显示对于特定隧穿相位和强排斥相互作用(),传输由介质重整化群固定点支配,该固定点在弱-强隧穿极限之间进行插值。这些结果扩展了之前的点接触隧穿研究,表明相互作用如何定性修改多端口拓扑器件的传输属性。
引用
@article{arxiv.2506.05051,
title = {Strongly Correlated Transport in Topological Y-Junction Devices},
author = {E. Novais},
journal= {arXiv preprint arXiv:2506.05051},
year = {2025}
}
备注
15 pages, 9 figures, improved abstract, introductionn and conclusion, fixed references and typos