高压极限下原子级薄谐振器中的 squeeze-film 效应
介观与纳米尺度物理
2021-10-04 v1 应用物理
摘要
由于 squeeze-film 效应，膜的共振频率依赖于气体压强；该效应由谐振器高频运动压缩其下方被困的薄气膜所引发。这一效应在低质量石墨烯膜中尤为显著，使其成为压力传感应用的有前景候选者。在此，我们研究单层石墨烯谐振器中的 squeeze-film 效应，发现其共振频率低于假设理想压缩的模型预期。为理解此偏差，我们进行了玻尔兹曼与连续介质有限元模拟，并提出了一种包含气体泄漏效应的改进模型，能够解释观测到的共振频率压强依赖性。因此，本工作增进了对 squeeze-film 效应的理解，并为优化基于二维材料的 squeeze-film 压力传感器设计提供了进一步方向。
引用
@article{arxiv.2106.09368,
title = {Squeeze-film effect on atomically thin resonators in the high-pressure limit},
author = {Robin J. Dolleman and Debadi Chakraborty and Daniel R. Ladiges and Herre S. J. van der Zant and John E. Sader and Peter G. Steeneken},
journal= {arXiv preprint arXiv:2106.09368},
year = {2021}
}