仿射满维析因设计的一些刻画

定义了一类新的二水平非正规部分析因设计。我们将此类设计称为 {\it 仿射满维析因设计}，意指此类设计中的设计点不包含在 $\mathbb{F}_2$ 上向量空间的任何仿射超平面中。本文还阐明了此类设计的指示函数的性质。此类中的部分析因设计具有一个理想性质，即主效应模型的参数是同时可识别的。我们从 $D$-最优性的角度研究了此类设计的性质。特别地，对于饱和设计，当运行次数 $r \equiv 5,6,7$ (mod 8) 时，$D$-最优设计选自此类。