反铁磁耦合Fe/Si多层膜中埋藏硅化物的软X射线荧光研究
凝聚态物理
2009-10-28 v1
摘要
采用软X射线荧光光谱法获取Fe/Si多层膜中Si衍生的价带态信息。具有和不具有反铁磁层间交换耦合的薄膜的价带光谱差异显著，表明这些多层膜的间隔层中存在不同的硅化物相。与先前发表的块体铁硅化物荧光数据比较表明，硅化物间隔层中的Fe浓度相当高。反铁磁耦合多层膜的近边X射线吸收数据与荧光数据相结合，明确证明这些薄膜中的硅化物间隔层是金属性的。这些关于多层膜中埋藏层电子结构的结果，展示了新型高亮度同步辐射源所实现的广泛实验可能性。
引用
@article{arxiv.cond-mat/9512126,
title = {Soft X-ray Fluorescence Study of Buried Silicides in Antiferromagnetically Coupled Fe/Si Multilayer},
author = {J. A. Carlisle and A. Chaiken and R. P. Michel and L. J. Terminello and J. J. Jia and T. A. Callcott and D. L. Ederer},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9512126},
year = {2009}
}
备注
11 pages, 4 postscript figures, submitted to Phys Rev B15, Rapid Communications