应变岛的形状与粗化动力学

我们研究了应变外延半导体薄膜中岛的形成与粗化动力学。这些岛通常在由于弹性毛细效应的存在而经历形态不稳定性的薄膜中被观察到。我们首先使用二维连续模型以解析和数值两种方式描述了平衡岛的形成。我们发现这些平衡的岛状解具有最大高度 $h_0$，并且它们位于厚度为 $h_w$ 的平坦润湿层之上。然后我们考虑两个岛，并报告它们经历了一个遵循两阶段动力学的无中断粗化。第一阶段可以由准静态动力学描述，其中质量转移与岛的化学势差成正比。它关联着一个时间尺度 $t_c$，该尺度是岛之间距离 $d$ 的函数，并导致最小岛的收缩。一旦其高度小于最小平衡高度 $h_{0}^{*}$，其质量便在整个系统中铺展。我们的结果为未来分析岛集合的粗化铺平了道路。