考虑布局的自对准双重图形化友好标准单元库配置
硬件体系结构
2014-02-12 v1
摘要
自对准双重图形化（SADP）已成为将图形分辨率极限推进到 22 纳米以下技术节点的一项有前景的技术。尽管 SADP 提供了良好的套刻可控性，但在物理设计阶段，要获得无冲突的版图分解仍面临诸多挑战。本文研究了不同标准单元版图分解策略对布局的影响。我们提出了一种 SADP 友好的标准单元配置，该配置为标准单元提供预着色结果。这些配置被引入布局阶段，以帮助确保版图可分解性，并省去在后续阶段解决冲突的额外工作。
引用
@article{arxiv.1402.2442,
title = {Self-Aligned Double Patterning Friendly Configuration for Standard Cell Library Considering Placement},
author = {Jhih-Rong Gao and Bei Yu and Ru Huang and David Z. Pan},
journal= {arXiv preprint arXiv:1402.2442},
year = {2014}
}