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Ru$_{2-x}$Mn$_{1+x}$Al 薄膜

材料科学 2023-01-31 v2

摘要

立方 Heusler 合金 Ru2x_{2-x}Mn1+x_{1+x}Al 以薄膜形式生长在 MgO 和 MgAl2_2O4_4 衬底上。它是一种高度自旋极化的亚铁磁金属,具有弱的磁晶各向异性。尽管在结构和化学上与 Mn2RuxGa\text{Mn}_2\text{Ru}_x\text{Ga} 相似,它不表现出亚铁磁补偿,或大的磁致电流效应。这些差异归因于原子有序度以及与第13族元素 Al 或 Ga 杂化的共同影响。自旋极化约为 50% 至 60%。在完全有序化合物中,费米能级正上方存在态密度隙。

关键词

引用

@article{arxiv.2301.10148,
  title  = {Ru$_{2-x}$Mn$_{1+x}$Al thin films},
  author = {K. E. Siewierska and H. Kurt and B. Shortall and A. Jha and N. Teichert and G. Atcheson and M. Venkatesan and J. M. D. Coey and Z. Gercsi and K. Rode},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2301.10148},
  year   = {2023}
}

备注

8 pages , 7 figures, 2 tables