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电子掺杂铜氧化物中的电阻率饱和

强关联电子 2021-01-13 v1

摘要

我们报道了在轻掺杂 (x0.10x\sim 0.10) 的 as-grown 电子掺杂铜氧化物 La2x_{2-x}Cex_xCuO4_4 (LCCO) 样品中观测到的电阻率饱和现象。一旦将这些材料中低有效载流子密度纳入分析,该饱和出现在与唯象 Mott-Ioffe-Regel 判据大致相符的电阻率值处。这些结果表明,至少对于轻掺杂,这些材料的高温金属相未必是奇异的,而可理解为一种简单的低密度金属。

关键词

引用

@article{arxiv.2007.03685,
  title  = {Resistivity saturation in an electron-doped cuprate},
  author = {Nicholas R. Poniatowski and Tarapada Sarkar and Sankar Das Sarma and Richard L. Greene},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2007.03685},
  year   = {2021}
}

备注

5 pages, 2 figures