利用布拉格反射镜评估多孔硅折射率
光学
2022-09-14 v1
摘要
制备一维光子结构并形成完美光子带隙需要两种主要物理性质：厚度周期性质量及其组分的折射率。多孔硅（PS）是一种纳米结构材料，因易于通过改变制备条件调控其孔隙率与折射率，被广泛用于制备一维光子晶体。由于PS的形貌随孔隙率变化，确定其折射率并非易事。为求得PS的光学性质，可使用不同的有效介质近似（EMA）。本工作中，我们提出一种评估PS层折射率用于构建光子布拉格反射镜表现的方法。通过品质因子我们度量理论与实验间的一致性，并据此提出确定折射率可用性的简单流程。我们在更复杂结构（如宽带Vis-NIR反射镜）中检验所得折射率，并借助优值函数发现理论与实验间良好吻合。通过本研究，我们提出了评估PS布拉格反射镜折射率的定量参数。该流程可影响面向不同应用的一维光子结构的设计与制备。
引用
@article{arxiv.1711.03117,
title = {Refractive index evaluation of porous silicon using Bragg reflectors},
author = {Denise Estrada-Wisese and J. Antonio del Rio},
journal= {arXiv preprint arXiv:1711.03117},
year = {2022}
}