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氧化物中氧化学扩散过程中缺陷分布上的反应前沿出现。II. 动力学分析

材料科学 2018-06-06 v1

摘要

我们提出了一项关于氧化物晶体中氧扩散对金属掺杂离子价态及动态变化下导电类型影响的理论研究。热平衡下的缓慢变化在姊妹篇(第一部分)中给出。假设晶体暴露于低环境氧压下会产生作为浅双电子施主的氧空位。在氧分压 PiP_i 处由 n 型到 p 型的临界转变,以及在氧分压 PMP_M 处金属掺杂剂电离态的临界转变,通常并不同时发生,且依赖于不同的反应常数。对所有参与物种引入双极扩散,表明氧空位扩散在上述临界压强相关的空位浓度特定区域表现出明确特征。特别地,氧化学扩散率在 PiP_iPMP_M 之间几乎恒定,并在压强 PPi,PMP \ll P_i, P_MPPi,PMP \gg P_i, P_M 时急剧增大。在后面两个区域的特定条件下会出现显著的反应前沿。

关键词

引用

@article{arxiv.1806.01706,
  title  = {Reaction front occurrence on imperfection profiles during oxygen chemical diffusion in oxides. II. Kinetic analysis},
  author = {Misha Sinder and Zeev Burshtein and Joshua Pelleg},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1806.01706},
  year   = {2018}
}

备注

18 pages, 4 figures