动态气氛组分下的氧化物化合物生长
材料科学
2009-03-03 v1 化学物理
摘要
市售气体含有残留杂质，导致背景氧分压通常为几个 bar，且与温度无关。对于某些单晶的生长而言，这种氧分压是不合适的，因为这些晶体所需的氧化态具有狭窄的稳定场。平衡热力学计算允许确定动态气氛组分，从而产生这种自调节且依赖于温度的氧分压，使得 ZnO、GaO 或 FeO 等晶体可以从熔体中生长出来。
引用
@article{arxiv.0805.2217,
title = {Growth of Oxide Compounds under Dynamic Atmosphere Composition},
author = {D. Klimm and S. Ganschow and D. Schulz and R. Uecker and P. Reiche and R. Fornari},
journal= {arXiv preprint arXiv:0805.2217},
year = {2009}
}
备注
4 pages, 3 figures, talk on CGCT-4 Sendai, May 21-24, 2008