通过退火 Fe-N 薄膜中 N 互扩散制备具有巨饱和磁化强度的 Fe16N2 的极化中子反射率研究
材料科学
2012-11-06 v1
摘要
我们报道了一种通过 N 互扩散过程生长具有巨饱和磁化强度 (Ms) 的氮化铁薄膜的合成路线。通过对在 GaAs(001) 衬底上生长的 Fe/Fe-N 结构薄膜进行后退火，氮从过掺杂的非晶态 Fe-N 层扩散到应变结晶 Fe 层中，促进了亚稳态 Fe16N2 相的形成。通过极化中子反射率探测，深度依赖的 Ms 分布可以很好地由一个模型描述，该模型显示在靠近衬底界面处存在高达 2360 emu/cm3 的巨 Ms，对应于这些退火薄膜的应变区域。这远大于目前已知的极限（Fe65Co35，Ms 1900 emu/cm3）。目前的合成方法可用于开发未来磁记录应用的写入材料。
引用
@article{arxiv.1211.0551,
title = {Polarized neutron reflectometry study of Fe16N2 with Giant Saturation Magnetization prepared by N Inter-diffusion in Annealed Fe-N Thin Films},
author = {Nian Ji and Valeria Lauter and Hailemariam Ambaye and Xiaowei Zhang and Sarbeswar Sahoo and Mike Kautzky and Mark Kief and Jian-Ping Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:1211.0551},
year = {2012}
}