真实石墨烯/六方氮化硼莫尔图案中的等离激元
介观与纳米尺度物理
2019-01-28 v1
摘要
采用石墨烯与六方氮化硼(hBN)晶体的范德瓦耳斯异质结构已成为等离激元学的一个有前景的平台，这归功于其集体模式随载流子密度的可调性以及等离激元优值创纪录的数值。在本文中，我们利用基于第一性原理计算导出的连续模型哈密顿量，从理论上研究了近对齐石墨烯/hBN中莫尔图案超晶格的作用。我们计算了门控器件中可实现的多种化学势值下该体系的能量损失函数。我们的计算表明，莫尔能带的电子-空穴不对称性导致等离激元色散在正负化学势之间出现显著的不对称性，展示了穿过空穴带次级狄拉克点隙时复杂的能带结构与丰富的吸收谱。
引用
@article{arxiv.1807.02381,
title = {Plasmons in realistic graphene/hexagonal boron nitride moir\'e patterns},
author = {Andrea Tomadin and Marco Polini and Jeil Jung},
journal= {arXiv preprint arXiv:1807.02381},
year = {2019}
}
备注
7 pages, 6 figures