PBr3在含单空位与双空位的氯化Si(100)表面的吸附
材料科学
2023-11-30 v1
摘要
为了在硅中实现最精确的单杂质掺入（用于制造量子器件），通常采用Si(100)表面上的吸附原子单层与含掺杂原子的分子。本文中，我们在77 K的扫描隧道显微镜（STM）下研究了三溴化磷与带有单空位和双空位的氯单层的相互作用。分子中不同卤素与吸附层卤素的结合使得在Si(100)-Cl上PBr3解离后的结构得以明确辨识。将Cl单层暴露于STM腔中的PBr3，使我们能够比较PBr3吸附前后同一表面区域。通过此比较，我们检测到氯层中的微小变化，并揭示了填充单空位和双空位的分子碎片。利用密度泛函理论，我们发现磷原子在PBr3分子解离后占据桥位，主要在与Cl双空位中的硅成键。这些发现增进了对含掺杂分子与Si(100)上吸附单层的相互作用的理解，并可应用于改进硅中单杂质掺入工艺。
引用
@article{arxiv.2311.17660,
title = {PBr3 adsorption on a chlorinated Si(100) surface with mono- and bivacancies},
author = {T. V. Pavlova and V. M. Shevlyuga},
journal= {arXiv preprint arXiv:2311.17660},
year = {2023}
}