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W73+到W56+的部分与总双电子复合速率系数

原子物理 2016-04-25 v1 等离子体物理

摘要

双电子复合(DR)是一种关键的原子过程,影响钨的光谱诊断建模,其大多数电离级将在ITER聚变反应堆的某个地方找到:在边缘、偏滤器或核心等离子体中。准确的DR数据很少,而完整的DR覆盖是粗糙的(例如平均原子或Burgess通用公式),正如目前钨电离平衡中存在的大不确定性所说明的。为此,我们提出了一系列部分末态分辨和总的DR速率系数,针对W73+到W56+钨离子。这是“钨计划”内更广泛努力的一部分,旨在计算钨同核序列的准确双电子复合速率系数,用于有限密度托卡马克等离子体的碰撞辐射建模。复合速率系数是使用autostructure计算的,采用kappa平均相对论波函数在能级分辨率(中间耦合)和组态分辨率(组态平均)下。结果可根据adf09和adf48标准格式从OPEN-ADAS获取。与之前W63+和W56+总DR速率系数的计算比较,在峰值温度下分别一致到20%和10%以内。还看到对麦克斯韦分布的Juttner修正对最高电荷态钨的电离平衡有显著影响,改变了几个离子的峰值丰度温度和电离分数。

关键词

引用

@article{arxiv.1603.05920,
  title  = {Partial and Total Dielectronic Recombination rate coefficients for W73+ to W56+},
  author = {S. P. Preval and N. R. Badnell and M. G. O'Mullane},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1603.05920},
  year   = {2016}
}

备注

36 pages, 23 figures. Accepted for publication in Physical Review A