Au-Hf 薄膜的光学性质

首次实验研究了金属间化合物 Au$_{3}$Hf 薄膜的光学性质，其在光学和近红外区域表现出具有负介电常数的明显等离激元性质。与类似合金（如 Au$_{3}$Zr 薄膜）相比，该薄膜在大部分所研究的波长（370–1570 nm）上表现出更负的 $\epsilon'$ 值和更低的 $\epsilon''$ 值。Au$_{3}$Hf 薄膜通过直流磁控溅射在一系列沉积温度下制备，从室温到 415$^{o}$C，并在不同真空度下退火。薄膜在低于 400$^{o}$C 沉积时主要形成 Au$_{3}$Hf、Au$_{2}$Hf 和 Au$_{4}$Hf 相的组合，而在高于 400$^{o}$C 时仅形成 Au$_{3}$Hf 相，表明了分离该相的关键条件。薄膜在 10$^{-8}$ Torr 退火时稳定，但在 10$^{-6}$ Torr 再次退火时氧化并变为 Au-Hf 相的混合物，表明抗氧化性对于未封装的高温应用可能是一个问题。