三种位点稀释系统的非线性和自旋玻璃磁化率

通过回火 Monte Carlo 模拟，我们在零外加场下获得了三种具有淬灭位点无序的 Ising 自旋玻璃（SG）的非线性磁化率 $\chi_{3}$ 和自旋玻璃磁化率 $\chi_{sg}$。我们发现，对于 Edwards-Anderson 自旋玻璃成立的关系 $-T^3\chi_3=\chi_{sg}-2/3$（$T$ 为温度），在典型自旋玻璃中近似满足。对于面心立方（fcc）晶格中占所有位点 0.4 比例的最近邻反铁磁相互作用，以及空间无序的 Ising 偶极（DID）系统，$-T^3\chi_3$ 和 $\chi_{sg}$ 在临界温度 $T_{sg}$ 处似乎以相同的方式发散。然而，在稀释的 fcc 系统中，$-T^3\chi_3$ 比 $\chi_{sg}$ 小两个数量级以上。在 DID 系统中，$-T^3\chi_3/\chi_{sg}$ 对系统的长宽比非常敏感。在 $T_{sg}$ 附近，当系统形状从立方体变为细长针状时，$\chi_{sg}$ 的变化大约为 2 倍，而 $\chi_3$ 则跨越了大约四个数量级。