当平带与抛物带接触时的向列相、拓扑相和 Berry 相

众所周知，二维中的（单味）二次带交叉在无穷小排斥相互作用下具有通向量子反常霍尔 (QAH) 基态的普遍不稳定性。在此，我们引入了一种仅受旋转对称性保护的二次带交叉的推广形式。通过聚焦于抛物带与平带接触这一代表性情况（这也允许直接的晶格实现），我们发现相互作用诱导的向列相通常能成功地与 QAH 绝缘体竞争，并在相图的某些部分即使在弱耦合下也成为主导不稳定性。利用微扰重整化群、强耦合分析和平均场理论，我们绘制了该模型的完整相图及其拓扑性质。有趣的是，Berry 通量在单味极限下随各种控制参数连续变化。