基于牺牲压印的纳米结构亚微米嵌段共聚物点：一种用于局域分辨传感、化学与细胞相互作用的预富集平台
应用物理
2018-03-26 v1 材料科学
摘要
经典接触光刻涉及通过压印或油墨转移对表面进行图案化。我们报道了将牺牲印章的部分直接光刻转移到对应表面上的方法。使用由嵌段共聚物聚苯乙烯-嵌段-聚(2-吡啶) (PS-b-P2VP) 构成的牺牲印章，我们将高度约 100 nm 的纳米结构亚微米 PS-b-P2VP 点阵列沉积到硅片和载玻片上。牺牲 PS-b-P2VP 印章具有截角金字塔形接触元件的形貌图案，并贯穿有海绵状连续纳米孔系统。牺牲 PS-b-P2VP 印章的海绵状特性支持其与对应表面形成粘附接触，并在印章回缩时使接触元件断裂。通过牺牲压印生成的亚微米 PS-b-P2VP 点可进一步功能化，例子包括将染料载入亚微米 PS-b-P2VP 点以及将金纳米颗粒附着到其外表面。该亚微米 PS-b-P2VP 点阵列可集成到高级光学显微镜、全内反射荧光显微镜或拉曼显微镜的装置中。纳米结构亚微米嵌段共聚物点阵列可代表一种用于局域分辨传感和局域分辨监测细胞相互作用的预富集平台，或可用作芯片实验室构型中的微反应器阵列。
引用
@article{arxiv.1802.08754,
title = {Nanostructured submicron block copolymer dots by sacrificial stamping: a potential preconcentration platform for locally resolved sensing, chemistry and cellular interactions},
author = {Peilong Hou and Weijia Han and Michael Philippi and Helmut Schäfer and Martin Steinhart},
journal= {arXiv preprint arXiv:1802.08754},
year = {2018}
}
备注
ACS Applied Nano Materials 2018