超越仿忘 Microacoustics：用于悬挂拉姆波共振器的可扩展制造工艺
系统与控制
2024-07-23 v1 系统与控制
摘要
深紫外 (DUV) 光刻目前用于制造大规模集成电路 (IC)。其高通道率和分辨率可为电信市场的大规模 RF MEMS 生产带来利益。我们提出了使用 DUV 光刻制造悬挂声学共振器的工艺流程。该方法允许制造具有 250 nm 关键尺寸和小于 100 nm 对准精度的共振器。我们展示了光刻胶和抗反射涂层如何与工艺集成，有助于沉积质量和分辨率，离子束刻蚀如何实现共振器的垂直侧壁。我们测量了共振频率 (fr) 最高可达 7.5 GHz 和机械耦合最高可达 8%，我们通过分析四个主要共振模式在晶圆表面 fs 的偏差来研究该工艺的均匀性。我们表明 S0 模式的偏差可保持在 1% 以下。这些结果表明该工艺适用于快速扩展拉姆波共振器技术，将其从研究推向产业。
引用
@article{arxiv.2407.15213,
title = {More-than-Moore Microacoustics: A Scalable Fabrication Process for Suspended Lamb Wave Resonators},
author = {Marco Liffredo and Federico Peretti and Nan Xu and Silvan Stettler and Luis Guillermo Villanueva},
journal= {arXiv preprint arXiv:2407.15213},
year = {2024}
}
备注
Submitted to IEEE-TUFFC on 21.07.2024