中文

用三参数子晕丰度匹配模拟0.2<z<1.0的BOSS与eBOSS亮红星系

宇宙学与河外天体物理 2022-08-17 v3

摘要

子晕丰度匹配(SHAM)是一种基于高分辨率NN体模拟构建星系星表的经验方法。我们将SHAM应用于UNIT模拟,以在0.2<z<1.00.2 < z < 1.0的宽红移范围内模拟SDSS BOSS/eBOSS亮红星系(LRGs)。除典型的SHAM散射参数σ\sigma外,我们引入vsmearv_{\rm smear}VceilV_{\rm ceil}分别考虑红移不确定性与星系不完整度。这两个附加参数对重现5--25h1Mpc\,h^{-1}\,{\rm Mpc}上观测到的2PCF多极矩至关重要。由最佳拟合vsmearv_{\rm smear}得到的红移不确定度与除LOWZ样本外所有SDSS LRGs的重复观测结果一致。我们探究了若干潜在系统误差,但均无法解释LOWZ中的偏差。我们的解释是LOWZ星系可能包含另一类需区别对待的星系。测得的σ\sigmaVceilV_{\rm ceil}的演化还揭示eBOSS星系的不完整度随红移降低,这是eBOSS LRG选源中施加星等下限所致。在完整星系样本下,我们的SHAM还对星系—晕关系的本征散射给出上限:LOWZ在0.2<z<0.330.2<z<0.33σint<0.31\sigma_{\rm int}<0.31,LOWZ在0.33<z<0.430.33<z<0.43σint<0.36\sigma_{\rm int}<0.36,CMASS在0.43<z<0.510.43<z<0.51σint<0.46\sigma_{\rm int}<0.46。我们SHAM星系的投影2PCF在2PCF拟合区间上也与观测一致。

关键词

引用

@article{arxiv.2203.11069,
  title  = {Model BOSS & eBOSS Luminous Red Galaxies at 0.2 < z < 1.0 using SubHalo Abundance Matching with 3 parameters},
  author = {Jiaxi Yu and Cheng Zhao and Chia-Hsun Chuang and Julian Bautista and Ginevra Favole and Jean-Paul Kneib and Faizan Mohammad and Ashley Ross and Anand Raichoor and Charling Tao and Kyle Dawson and Graziano Rossi},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2203.11069},
  year   = {2022}
}