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中红外亚波长光栅反射镜设计:容差与工艺约束的影响

光学 2011-12-02 v1

摘要

本文对比了适用于 VCSEL 集成、具有大带宽的高偏振选择性 Si/SiO2 中红外亚波长光栅反射镜。这些反射镜通过一种最大化特定定义品质因数的优化算法,自动设计为在 λ=2.3μm\lambda = 2.3 \mu m 下工作。优化算法中施加了与光栅制造工艺相关的若干工艺约束,并评估了其对反射镜光学性质的影响。此外,通过对结构各维度的容差计算,测试了其对制造误差的鲁棒性。最后,结果表明,提高反射镜的光学性能要求设计具有更低的容差和更严格的工艺约束,从而需要对制造过程进行更严格的控制。

关键词

引用

@article{arxiv.1112.0196,
  title  = {Mid-infrared sub-wavelength grating mirror design: tolerance and influence of technological constraints},
  author = {Christyves Chevallier and Nicolas Fressengeas and Frédéric Genty and Joel Jacquet},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1112.0196},
  year   = {2011}
}

备注

The final publication is available at http://iopscience.iop.org/2040-8986/13/12/125502/