接触干涉混合光刻：面向交叉尺度周期微结构的可扩展制造及其在红外微极化阵列上的示范
光学
2024-10-17 v1
摘要
亚波长光栅微极化阵列作为一种焦平面分割式同时检测方法, 正显著推动了偏振成像技术的发展和实际应用。基于光栅阵列的交叉尺度、双周期特性, 本文提出一种将激光干涉光刻与接触光刻结合的制造方法。该方法通过四步光刻工艺构建完整的单层微极化阵列光敏图案。与传统的逐点制造方法如 EBL 和 FIB 相比, 图案化时间缩短了 3 至 4 个数量级。此外, 通过引入折射率匹配液体和基于基片轮廓的对准方法, 最小化了间隙和拼接误差, 从而实现制造误差小于 1{\mu}m 的高质量光敏图案。最后通过图案传递获得双层金属光栅结构。性能测试表明, 该微极化阵列在 3-15{\mu}m 波长范围内的最大透射率超过 50%, 色度比超过 15dB。该探索为制造微极化阵列提供了一条低成本、高效率的制造路径。
引用
@article{arxiv.2410.12573,
title = {Contact-interference Hybrid lithography: Toward Scalable Fabrication of cross-scale periodic micro structure and demonstration on infrared micro polarizer array},
author = {Tianshi Lu and Fuyuan Deng and Yufeng Wei and Zhipeng Zeng and Xinghui Li},
journal= {arXiv preprint arXiv:2410.12573},
year = {2024}
}
备注
23 pages, 13figures