SiO2 老化过程的微观图像

我们通过分子动力学模拟研究了非晶态 SiO2 从高温 $T_i$ 淬火至低温 $T_f$ 的老化动力学。通过分析单粒子轨迹，识别粒子逃逸出其邻居形成的笼子的跳跃事件，并确定这些跳跃如何依赖于等待时间 $t_w$（即自温度淬火至 $T_f$ 以来经过的时间），我们获得了老化动力学的微观图像。我们发现，唯一依赖于 $t_w$ 的微观量是单位时间内的跳跃粒子数，该数值随老化而减少。与先前针对脆性玻璃形成体的研究类似，我们在此表明，对于强玻璃形成体 SiO2，跳跃长度的分布和在笼子中停留时间的分布均不依赖于 $t_w$。我们得出结论，脆性和强玻璃形成体的微观老化动力学令人惊讶地相似。