范德瓦耳斯异质结构中局部扭转角与层排列的测量
材料科学
2018-08-21 v1
摘要
范德瓦耳斯异质结构的性能由相邻层间的扭转角与界面以及它们的多型性和堆垛决定。此处我们描述利用光谱低能电子显微镜(LEEM)与微低能电子衍射({\mu}LEED)方法在局部测量这些性质。我们呈现了MoS/hBN异质结构的结果，但这些方法适用于其他材料。衍射斑分析用于评估使用hBN作为基底的好处。此外，通过利用晶格破缺的旋转对称性，我们确定了MoS薄片的剥离历史，即哪一层源自块体中的何处。
引用
@article{arxiv.1806.05155,
title = {Measuring the Local Twist Angle and Layer Arrangement in Van der Waals Heterostructures},
author = {Tobias A. de Jong and Johannes Jobst and Hyobin Yoo and Eugene E. Krasovskii and Philip Kim and Sense Jan van der Molen},
journal= {arXiv preprint arXiv:1806.05155},
year = {2018}
}