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运动基底上垂直液膜的线性稳定性分析

流体动力学 2024-12-04 v1 数学物理 math.MP

摘要

液膜流动的稳定性在许多工业应用中很重要。在浸涂过程中,液膜在基底以恒定速度从液体浴中取出时形成。我们研究了考虑不同厚度h^\hat{h}的四种液体的该液膜稳定性,涵盖了广泛的Kapitza数(Ka)。通过使用Chebyshev-Tau谱方法求解Orr-Sommerfeld特征值问题,我们计算了中性曲线,研究了不稳定性机制,并计算了绝对/对流阈值。通过涡量分布和扰动动能平衡的分析研究了不稳定性机制。结果发现,低Ka液体(如玉米油,Ka=4)的稳定区域小于高Ka液体(如液态锌,Ka=11525)。表面张力同时具有稳定和不稳定的作用,尤其对于大Ka。对于长波,它使基底附近的涡量线弯曲,减少了波峰下方的流动。对于短波,它促进了界面处的涡量产生,并在基底附近形成了强烈的涡量区域。此外,我们发现表面张力根据Ka数的不同,对扰动能量的产生和耗散都有贡献。在绝对/对流阈值方面,我们在Re-h^\hat{h}空间中发现了绝对不稳定性的窗口,表明Landau-Levich-Derjaguin解(h^=0.945Re1/9Ka1/6\hat{h}=0.945\text{Re}^{1/9}\text{Ka}^{-1/6})始终是对流不稳定的。此外,我们表明对于Ka<17,Derjaguin解(h^=1\hat{h}=1)始终是对流不稳定的。

关键词

引用

@article{arxiv.2408.06836,
  title  = {Linear stability analysis of a vertical liquid film over a moving substrate},
  author = {Fabio Pino and Miguel Alfonso Mendez and Benoit Scheid},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2408.06836},
  year   = {2024}
}