T-μ_B-μ_I-eB 空间中临界端点附近的光介子

利用双味 NJL 模型在 $T-\mu_B-\mu_I-eB$ 空间中研究了光介子 $(\sigma, \pi^0, \pi^\pm)$，它们与手征对称性恢复和介子超流相变相关。在 $T-\mu_B-eB$ 空间中，在手征恢复过程中，赝戈德斯通模式 $\pi^0$ 的质量持续增加，并伴随突然的质量跳跃。在临界端点区域，$\pi^0$ 介子有非常尖锐但连续的质量增加，并在莫特跃迁处伴随突然的质量跳跃；在附近的一阶手征相变区域，我们观察到两次 $\pi^0$ 质量跳跃，分别由莫特跃迁和夸克质量跳跃引起。希格斯模式 $\sigma$ 的质量先减小后增大，与手征对称性恢复相关，并在一阶手征相变处出现跳跃。我们根据夸克质量变化、$\pi^0$ 的莫特跃迁和 $\sigma$ 的最小质量绘制了手征相图。由于物理情形中手征对称性的显式破缺，$T-\mu_B$ 平面内由序参量和介子侧给出的手征恢复相边界彼此不同。在 $T-\mu_I$ 平面内，借助戈德斯通模式 $\pi^+$ 和赝戈德斯通模式 $\pi^0$ 研究了磁场下介子超流相变与手征对称性恢复之间的竞争。两条相边界的分离被外磁场增强。与一阶手征相变区域中 $\pi^0$ 的两次质量跳跃不同，$\pi^+$ 介子在手征渡越区域表现出多次质量跳跃。在临界端点处，$\pi^+$ 也表现出非常尖锐但连续的质量变化，并在莫特跃迁处伴随质量跳跃。