原子级平整单端面SrTiO3(111)表面上SrRuO3薄膜的逐层生长与生长模式转变
材料科学
2010-02-03 v1
摘要
我们报道了在原子级平整的Ti4+单端面SrTiO3(111)衬底上生长SrRuO3薄膜时的生长模式转变，该转变通过反射高能电子衍射和原子力显微镜进行了研究。在生长速率为0.074 unit cells/sec且生长温度为700 C时，前~9个晶胞内主导的生长模式从岛状生长转变为逐层生长。此外，在生长SrRuO3薄膜的过程中，可以通过改变生长温度和生长速率来调控所关注的主导生长模式，这种改变允许选择所需的逐层生长模式。因此，本研究为将SrRuO3薄层集成到(111)取向的氧化物异质结构中铺平了道路，进而可用于需要控制原子级锐利界面和逐层生长模式的多功能器件。
引用
@article{arxiv.0812.3196,
title = {Layer-by-layer growth and growth-mode transition of SrRuO3 thin films on atomically flat single-terminated SrTiO3 (111) surfaces},
author = {Jaewan Chang and Yoon-Seok Park and Jong-Woo Lee and Sang-Koog Kim},
journal= {arXiv preprint arXiv:0812.3196},
year = {2010}
}
备注
16 pages, 3 figures