适合用作异质结构底电极的平坦 SrRuO3(111) 薄膜的生长
材料科学
2009-11-13 v1
摘要
在具有缓冲电极的 SrTiO3(111) 衬底上生长铁电或多铁材料薄膜，一直因难以在该极性取向面上生长平坦电极而受阻。我们报道了通过脉冲激光沉积在 SrTiO3(111) 上生长的 SrRuO3 薄膜的生长与表征。我们证明，我们的 SrRuO3(111) 薄膜是外延的，并显示出类似块体的磁性质。厚度在 20 至 30 nm 之间的薄膜被发现非常平坦（均方根粗糙度约为 0.5 nm），因此适合用作异质结构中的底电极。
引用
@article{arxiv.0807.1647,
title = {Growth of flat SrRuO3(111) thin films suitable as bottom electrodes in heterostructures},
author = {D. Rubi and A. H. G. Vlooswijk and B. Noheda},
journal= {arXiv preprint arXiv:0807.1647},
year = {2009}
}
备注
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