多铁性BiMnO$_3$薄膜的生长与表征
材料科学
2015-05-19 v1 强关联电子
摘要
我们利用脉冲激光沉积法生长了多铁性BiMnO外延薄膜。通过烧蚀富Bi靶材，在SrTiO (001)衬底上生长了薄膜。使用X射线衍射确认了薄膜的外延性，并利用俄歇电子能谱确认了薄膜的化学计量比。薄膜的铁磁居里温度()为855 K，饱和磁化强度为1 /Mn。使用叉指电容几何结构测量了电极化随电场的变化()。图显示出清晰的磁滞回线，证实了薄膜的多铁性。
引用
@article{arxiv.1005.5404,
title = {Growth and characterization of multiferroic BiMnO$_3$ thin films},
author = {Hyoungjeen Jeen and Guneeta Singh-Bhalla and Patrick R. Mickel and Kristen Voigt and Chelsey Morien and Sefaattin Tongay and A. F. Hebard and Amlan Biswas},
journal= {arXiv preprint arXiv:1005.5404},
year = {2015}
}
备注
4 pages, 4 figures, submitted to J. Appl. Phys