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石墨烯中Kekulé诱导的谷双折射与斜散射

介观与纳米尺度物理 2022-11-23 v1

摘要

在石墨烯中,Kekulé-Y键织构修饰电子能带结构,生成位于倒空间{\Gamma}点、具有不同费米速度的两个同心狄拉克锥。该能散导致给定能量下各同位旋分量具有不同的群速度。该能谱结合p-n结中的负折射率,使得石墨烯中电子类比光学双折射的现象得以涌现。我们利用散射方法表征由圆对称Kekulé图样与栅压区域产生的谷双折射。我们发现具有两个尖点的焦散线,其在空间上分离的距离依赖于Kekulé相互作用并为其强度提供度量。进而,在低载流子浓度下我们发现非零的斜散射截面,表明电子绕入射通量轴的散射不对称性。该效应与谷霍尔效应的出现相关,因为具有相反谷极化的电子被偏转至相反方向。

关键词

引用

@article{arxiv.2208.02930,
  title  = {Kekul\'e Induced Valley Birefringence and Skew Scattering in Graphene},
  author = {Elias Andrade and Ramon Carrillo-Bastos and Mahmoud M. Asmar and Gerardo G. Naumis},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2208.02930},
  year   = {2022}
}

备注

7 pages, 4 figures