拓扑镜像 Kondo 绝缘体薄膜中的相互作用拓扑相
强关联电子
2016-12-21 v1 介观与纳米尺度物理
材料科学
摘要
我们研究了拓扑镜像 Kondo 绝缘体 (TMKI) 薄膜上的相互作用效应，其中强相互作用预期将发挥重要作用。我们的研究得出以下结果：(1) 我们识别了单层和双层薄膜中具有不同镜像 Chern 数的非相互作用 TMKI 的丰富相图；(2) 我们获得了包含相互作用的相图，并确定了相互作用参数的区间，以模拟在边界处具有无能隙玻色子模式或自发镜像对称性破缺的玻色子对称性保护拓扑相；(3) 对于自发镜像对称性破缺边界，我们还研究了边界处不同镜像对称性破缺序参量之间的各种畴壁缺陷。我们的结果表明，TMKI 薄膜为相互作用拓扑相的实验研究提供了一个引人入胜的平台。
引用
@article{arxiv.1607.06073,
title = {Interacting topological phases in thin films of topological mirror Kondo insulators},
author = {Rui-Xing Zhang and Cenke Xu and Chao-Xing Liu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1607.06073},
year = {2016}
}
备注
11 pages, 4 figures