Fe 分流 Ba-122 薄膜微结构的红外光响应
超导电性
2019-05-24 v1
摘要
我们展示了 Fe 层分流的 pnictide 薄膜微结构对脉冲红外辐射的响应研究。由 20 nm 厚的 Fe 缓冲层、50 nm 厚的 Ba(Fe,Co)2As2 薄膜和金保护层组成的薄膜多层结构，通过脉冲激光沉积法沉积在加热的 MgO 和 MgAl2O4 衬底上。利用电子束光刻和离子铣削技术将多层结构图案化为宽 5 至 8 微米、长 5 微米的微桥。这些微桥显示出高达 20 K 的 以及在 K 时高达 2.56 MA/cm 的临界电流密度。我们在广泛的入射光功率、工作温度和偏置电流范围内研究了 Fe 分流 Ba(Fe,Co)2As2 薄膜微桥对红外辐射的光响应。我们发现，所研究多层结构中的电子能量弛豫依赖于衬底材料，在与 pnictide 薄膜晶格匹配的 MgAl2O4 情况下，其速度比 MgO 衬底快 1.75 倍。
引用
@article{arxiv.1210.3659,
title = {Infrared photo-response of Fe-shunted Ba-122 thin film microstructures},
author = {L. Rehm and D. Henrich and M. Hofherr and S. Wuensch and P. Thoma and A. Scheuring and K. Ilin and M. Siegel and S. Haindl and K. Iida and F Kurth and B. Holzapfel and L. Schultz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1210.3659},
year = {2019}
}
备注
ASC 2012 submission