反铁磁体中斯格明子与双半子的印记
材料科学
2025-06-30 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
凝聚态物理中拓扑保护的磁性态，特别是反铁磁（AFM）斯格明子（Sks）和双半子（Bms），因其补偿的多子晶格结构，为太赫兹动力学和持续电流驱动运动提供了广阔前景。然而，由于缺乏净磁化强度，成核AFM Sks和Bms具有挑战性。先前尝试利用FM/AFM异质结构中的界面交换偏置，将预定义的Sks和Bms从铁磁体（FM）印记并转移到AFM的努力，一直受到具有不连续性、多晶性或复相手性AFM的多层结构的阻碍。利用原子级自旋模拟，我们证明了在无间断的多层结构中，使用原型双分AFM层进行纹理印记以成核AFM中Sks和Bms的可行性。这种印记是理解天然AFM纹理静态和动态特性及其独特性质的关键一步。
引用
@article{arxiv.2502.03055,
title = {Imprinting of skyrmions and bimerons in an antiferromagnet},
author = {Coline Thevenard and Miina Leiviskä and Richard F. L. Evans and Daria Gusakova and Vincent Baltz},
journal= {arXiv preprint arXiv:2502.03055},
year = {2025}
}