合成反铁磁体中的自旋纹理：挑战、机遇与未来
材料科学
2023-07-18 v1 介观与纳米尺度物理
应用物理
摘要
磁畴壁和 skyrmion 等自旋纹理有潜力通过编码信息位来革新电子器件。尽管铁磁薄膜近期的进展已带来有前景的器件原型，但其广泛实现受限于材料相关的缺陷。然而，反铁磁自旋纹理为许多此类局限提供了解决方案，为更快、更小、更节能且更稳健的电子学铺平了道路。由间隔层分隔的两个或多个磁层构成的合成反铁磁体，可借助不同材料以及界面工程轻松调控其功能。在本展望文章中，我们审视合成反铁磁体中自旋纹理所带来的挑战与机遇，并为这一新兴领域未来的研究提出可能的方向与前景。
引用
@article{arxiv.2306.09565,
title = {Spin Textures in Synthetic Antiferromagnets: Challenges, Opportunities, and Future},
author = {Kang Wang and Vineetha Bheemarasetty and Gang Xiao},
journal= {arXiv preprint arXiv:2306.09565},
year = {2023}
}