基于氧 K 边软 X 射线景深的�锰酸钡薄膜铁电域结构成像
材料科学
2025-01-09 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
铁锰酸钡（BiFeO）单层膜的铁电域结构，通过在氧 K 边约530 eV 处使用线性偏振 X 射线进行景深双向成像可实现。双向对比度在 O 2p 态与 Fe 3d 轨道杂化能级处被最大化，这一能级因钙钐矿结构的八面体晶场而被分裂。由此获得的显微图像补充了在 Fe L 边的反亚磁性贡献景深成像。该方法可扩展到其他多铁氧体中不同铁性贡献的分离。
引用
@article{arxiv.2408.09608,
title = {Imaging ferroelectric domains with soft X-ray ptychography at the oxygen K-edge},
author = {Tim A. Butcher and Nicholas W. Phillips and Chia-Chun Wei and Shih-Chao Chang and Igor Beinik and Karina Thånell and Jan-Chi Yang and Shih-Wen Huang and Jörg Raabe and Simone Finizio},
journal= {arXiv preprint arXiv:2408.09608},
year = {2025}
}