超薄SrRu2O6纳米片的高温抗磁性

寻找室温级纳米尺度磁性材料仍是中心性挑战，这驱动着其在量子技术中的广泛应用前景。具有高磁有序温度的层状4d和5d过渡金属氧化物具有显著潜力。我们利用第一性原理计算和经典海森堡蒙特卡罗模拟，探索了超薄\ce{SrRu2O6}纳米片。令人惊讶的是，这些纳米片表现出鲁棒的抗磁性有序，Néel温度可超过430 K，尽管存在2维系统特征的增强自旋涨落。表面终端诱导的内在电荷掺杂为磁性带来复杂性，导致绝缘体-金属相变并在掺杂系统中重整Néel温度。详细的微观分析揭示了电子和空穴掺杂纳米片磁行为背后distinct机制。这些发现为推动该领域在二维极限下相关氧化物的理论与实验研究提供了基础。