光反应表面层图案中的粘附力层级
材料科学
2011-07-05 v1
摘要
精确控制表面性质（包括电特性、润湿性和摩擦）是制造现代有机电子器件的先决条件。将分子排列和取向的自下而上方法与在纳米和微米尺度上对基底进行图案化的自上而下技术成功结合，可实现未来有机发光二极管和有机薄膜晶体管的低成本制造与集成。自上而下图案化表面的一种可能性是利用官能团的不同表面自由能或润湿性质。这里，我们使用摩擦力显微镜（FFM）揭示通过光刻工艺刻入光敏表面层的化学图案。FFM能够同时可视化至少三种不同的化学表面终端。其潜在机制与探针和薄膜表面之间化学相互作用的变化有关。
引用
@article{arxiv.0810.2625,
title = {Hierarchy of adhesion forces in patterns of photoreactive surface layers},
author = {G. Hlawacek and Q. Shen and C. Teichert and A. Lex and G. Trimmel and W. Kern},
journal= {arXiv preprint arXiv:0810.2625},
year = {2011}
}
备注
11 pages, 5 figures The following article has been submitted to Journal of Chemical Physics. After it is published, it will be found at http://jcp.aip.org/