有限迁移率外延生长模型中晶格诱导拓扑电流导致的生长不稳定性
材料科学
2015-05-18 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
能量驱动的 Ehrlich-Schwoebel (ES) 势垒通常被认为是分子束外延 (MBE) 技术生长的薄膜表面所观察到的准规则丘状结构生长不稳定性的主要原因。最近，提出了第二种丘状结构形成机制，即源于形成丘状等高线的台阶边缘线张力的拓扑诱导粒子通量。通过在 2+1 维中使用 Wolf-Villain 和 Das Sarma-Tamborenea 提出的有限迁移率固对固模型，对多种晶格面上的 MBE 生长进行大规模模拟，我们提出了另一种类型的拓扑上坡粒子电流，该电流为某些晶格所特有，且迄今为止在文献中被忽视。在没有 ES 势垒的情况下，我们的模拟产生了壮观的丘状结构，在某些情况下，与近期许多 MBE 实验中观察到的结果非常相似。在这些电流不存在的晶格上，表面表现为尺度不变的，即如传统连续生长方程所预测的统计粗糙。
引用
@article{arxiv.1004.1480,
title = {Growth instability due to lattice-induced topological currents in limited mobility epitaxial growth models},
author = {Wittawat Kanjanaput and Surachate Limkumnerd and Patcha Chatraphorn},
journal= {arXiv preprint arXiv:1004.1480},
year = {2015}
}
备注
10 pages, 12 figures