Pt(111) 上超薄钴铁氧体薄膜的生长与表征
材料科学
2022-02-28 v1
摘要
通过氧辅助分子束外延在 Pt(111) 上于 523~K 生长了 CoFe2O4 薄膜(厚度 5 nm 和 20 nm),随后在真空中或氧气中于 773 K 退火。利用俄歇电子能谱、低能电子衍射、扫描隧道显微镜和转换电子穆斯堡尔谱进行了原位表征。所生长的薄膜由小的纳米晶粒组成。薄膜退火使晶粒尺寸增大,并在室温下产生磁有序,尽管部分薄膜仍保持顺磁态。退火还诱导了较厚薄膜表面的钴偏析。低温下测量的穆斯堡尔谱显示出钴铁氧体的特征,两种薄膜均呈现非常相似的超精细谱图。在氧气或真空中退火影响了阳离子分布,在氧气气氛下退火时其更接近于反尖晶石所预期的分布。
引用
@article{arxiv.2201.07087,
title = {Growth and characterization of ultrathin cobalt ferrite films on Pt(111)},
author = {G. D. Soria and K. Freindl and J. E. Prieto and A. Quesada and J. de la Figuera and N. Spiridis and J. Korecki and J. F. Marco},
journal= {arXiv preprint arXiv:2201.07087},
year = {2022}
}
备注
9 pages (two columns), 8 figures, 2 tables. Submitted to Applied Surface Science