外延尖晶石铁氧体薄膜生长的稳健方法
材料科学
2015-05-19 v1
摘要
我们通过脉冲激光沉积(PLD)在臭氧/氧气压力为10 mTorr、不同温度(175-690°C)下制备了异质外延尖晶石铁氧体NiFe2O4和CoFe2O4薄膜。由于低压下烧蚀物种的动能增强和臭氧的氧化能力增强，在比先前报道显著更低的温度下实现了外延。在低于550°C生长的薄膜显示出一种新的生长模式，我们称之为“垂直台阶流”生长模式。可以常规获得具有原子级平坦表面、大面积和增强磁矩的外延尖晶石铁氧体薄膜。有趣的是，该生长模式与衬底性质(尖晶石MgAl2O4、钙钛矿SrTiO3和岩盐MgO)和薄膜厚度无关。讨论了潜在的生长机制。
引用
@article{arxiv.1006.1161,
title = {A Robust Approach for the Growth of Epitaxial Spinel Ferrite Films},
author = {J. X. Ma and D. Mazumdar and G. Kim and H. Sato and N. Z. Bao and A. Gupta},
journal= {arXiv preprint arXiv:1006.1161},
year = {2015}
}
备注
13 pages, 6 images