用于纳米粒子单层图案倍增的图形外延
软凝聚态物质
2014-10-24 v1
摘要
我们利用经典密度泛函理论和蒙特卡洛模拟，计算了存在有限高度焓势垒 时粒子单层的自由能最小化结构。研究表明，尺寸至少达到粒子直径十倍的周期性方形模板会破坏熵有利的六方密排二维晶格的形成，转而 favor 方形晶格。结果阐明了图形外延如何成功地将纳米颗粒薄膜有序排列成比预图案模板小许多倍的所需图案。
引用
@article{arxiv.1410.6439,
title = {Graphoepitaxy for Pattern Multiplication of Nanoparticle Monolayers},
author = {Mark E. Ferraro and Roger T. Bonnecaze and Thomas M. Truskett},
journal= {arXiv preprint arXiv:1410.6439},
year = {2014}
}