氧化石墨烯薄片：界面性质的方法与技术
材料科学
2014-03-20 v1
摘要
氧化石墨烯和还原氧化石墨烯是用于光子学和电子器件的有趣材料，既因其内在特性，也作为合成石墨烯的前驱体。无论应用和工程目的如何，都需要精细控制化学和物理性质，因为基于石墨烯系统的性能取决于氧化石墨烯的还原状态，并且可能受到界面相互作用和邻近效应的强烈影响。因此，需要一种局部控制电学、电子和化学性质的方法。近边X射线吸收精细结构谱和导电原子力显微镜的协同应用是实现这一目的的有力方法，允许对简单和复合样品（包括具有介电不连续性的样品）进行全面表征。选择氧化石墨烯/金（GO/Au）和氧化石墨烯/二氧化硅（GO/SiO2）作为示例。结果表明，该方法能够将化学、电子和物理性质与形态特征和局部电导行为联系起来。
引用
@article{arxiv.1403.4738,
title = {Graphene Oxide flakes: methods and techniques for properties at interfaces},
author = {Zuppella Paola and Zuccon Sara and Nardello Marco and Corso Alain Jody and Silvestrini Simone and Maggini Michele and Pelizzo Maria Guglielmina},
journal= {arXiv preprint arXiv:1403.4738},
year = {2014}
}