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量子几何驱动的 Tellurene 巨型负磁阻

介观与纳米尺度物理 2025-12-16 v1 材料科学 量子物理

摘要

传统二维电子气中的负磁阻是众所周知的现象,但其在复杂和拓扑材料中的起源,尤其是那些拥有 quantum geometry 的材料中,仍然鲜为人知。我们在 n 型 Tellurene 薄膜中报告了一种巨大的负磁阻,达到 R0R_0 (零磁场电阻) 的惊人 90%-90\%。这一纪录级的效应在宽广的磁场范围内持续存在(最高测量至 3535 斯特拉德/克劳福德)且在低温下表现突出,当化学势偏离导带中的 Weyl 节点时被抑制,这强烈暗示了 quantum geometric 的起源。我们提出了两种新机制:量子几何增强的扩散和磁电 spin 相互作用,该相互作用将 Weyl 费米子在 crossed electric E\boldsymbol{\cal E} 和 magnetic B{\bf B} 场中做圆周运动的 spin 锁定到其导引中心漂移 (E×B)σ(\boldsymbol{\cal E}\times{\bf B})\cdot\sigma。我们表明,由量子度量在 spin-split 导带之间促进的 velocity auto-correlations 的 time integral 增强了扩散,从而降低了电阻。该机制通过独特的磁电依赖 ΔRzz(E,B)/R0=βg(E×B)2\Delta R_{zz}(\boldsymbol{\cal E},{\bf B})/R_0=-\beta_{g}(\boldsymbol{\cal E}\times{\bf B})^2 进行实验验证,其中 βg\beta_{g} 由量子度量决定。我们的发现在磁传输中建立了一种新的 quantum geometric 和 non-Markovian memory 效应,为控制复杂和拓扑物质的电子传输开辟了道路。

关键词

引用

@article{arxiv.2512.13413,
  title  = {Gate-Tunable Giant Negative Magnetoresistance in Tellurene Driven by Quantum Geometry},
  author = {Marcello B. Silva Neto and Chang Niu and Marcus V. O. Moutinho and Pierpaolo Fontana and Claudio Iacovelli and Victor Velasco and Caio Lewenkopf and Peide D. Ye},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2512.13413},
  year   = {2025}
}

备注

28 pages, 6 figures in the Main Text + 15 pages, 3 figures of Supplementary Information