通过随机介质聚焦：本征通道参与数与强度关联

利用随机矩阵计算，我们证明了对于扩散波，通过随机介质的最大聚焦强度与透射散斑图样背景之间的对比度为 $\mu_N = 1 + N_{eff}$，其中 $N_{eff}$ 为透射矩阵的本征通道参与数。对于扩散波，$N_{eff}$ 是强度关联度 $\kappa$ 的倒数。聚焦光束相对于系综平均强度的轮廓可用归一化空间场关联函数 $F(\Delta r)$ 的平方与 $\kappa$ 表示。这些结果在微波实验中得到了验证，并为最优聚焦与成像极限提供了参数。