1.5 MeV自离子束通量依赖的金纳米结构薄膜溅射
材料科学
2009-11-13 v1
摘要
我们讨论了沉积在硅基底上的金纳米结构（平均尺寸 7.6 nm，高度 6.9 nm）在 1.5 MeV Au2+ 离子诱导下溅射的四个重要方面，该过程具有通量依赖性：(a) 在离子通量为 6.3x10^12 ions cm-2 s-1 时，Au 的溅射产额测得为 312 atoms/ion，约为在相同辐照条件下但较低束流通量 10^9 ions cm-2 s-1 下报道的溅射产额的五倍；(b) 对于纳米结构薄膜，在较低注量下溅射产额随通量增加而增加，而在较高注量（1.0x10^15 ions cm-2）下则减小，而对于厚膜（沉积在 Si 上的 27.5 nm Au），溅射产额随通量和注量的增加而增加；(c) 溅射粒子的尺寸分布被发现随入射束流通量变化，在较高通量下呈现双峰分布；(d) 从溅射粒子尺寸分布获得的衰减指数显示出与入射束流通量相关的逆幂律依赖关系，范围从 1.5 到 2.5。将指数值与现有理论模型进行了比较，以理解其潜在机制。我们引入了与束流通量相关的晶圆温度，以定性理解纳米结构薄膜和厚膜的溅射结果。
引用
@article{arxiv.0806.3162,
title = {Flux dependent 1.5 MeV self-ion beam induced sputtering from Gold nanostructured thin films},
author = {J. Ghatak and B. Sundaravel and K. G. M. Nair and P. V. Satyam},
journal= {arXiv preprint arXiv:0806.3162},
year = {2009}
}
备注
25 pages, 5 figures, 1 table To be Appeared in J. Phys. D: Appl. Phys